• 专利附录
  • 专利说明
  • 权利要求
  • 类似技术
  • 同族专利
  • 引用文献
  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:

    公开号:WO1983000556A1
    申请号:PCT/JP1982/000299
    申请日:1982-08-02
    公开日:1983-02-17
    发明作者:Chemical Industries Limited Mitsubishi
    申请人:Nishikawa, Takashi；Nomura, Kazuo；Tsuchihashi, Kohji；
    IPC主号:G01N21-00
    专利说明:
    [0001] 明 細 発明の名称
    [0002] 石炭組鐵分析法及び装置 技 術 分 野
    [0003] 本発明は石炭組織分析法及び装置に関する。 詳 し く は、 本発明は石炭か ら コ ーク ス を製造する場合、 原料 炭の コ ーク ス 化性の定量的判定を画像処理技^を応用 して精度 よ く 求める方法お よ び装置に関する も のであ る 0 背 景 技 術
    [0004] 原料炭の コ 一ク ス化性を判定する手段 と して石炭の 微細担緣成分およ び ビ ト リ ニ ッ ト の反射率を J I S Μ s / έ ·の方法に よつて測定 し、 この測定值に も とづ き 石炭乾溜中に溶融する成分の主体をるす ビ ト リ ニ ッ ト の反射率で示される コ ー ク ス化性を求める方法が一 投的に用い られている。 更に、 近年に ]9 ホ ト マ ルチ プ ラ イ ヤ ー で反射光を測定 し原料炭の反射室頻度分布 を求め コ ーク ス化性を推定する迅速測定装置が提案さ れている。
    [0005] しか し ¾が ら、 前者の方法は人の視力に よって顕微 鏡下で約 / 〜 ^ 時間の長時間に亘 ] 観察 し が ら測定
    [0006] ( O PI一 するため能率の低下および個人誤差の可能性が大き い とい う 欠点がある。 ま た後者の装置はボイ ン ト 照明に よ る ポ イ ン ト 測光で測定 しているため 料の約 0 ？ ζ を占め る試料成形用バ イ ンダ一 と石炭 ¾の境界がボイ ン ト 照明のス ポ ッ ト 径をい く ら徵小に して も 測定値に 影響を及ぼすので微細 1 ¾成分の分析時に石炭粒の境 界の影饗を除 く 操作および補正が必要と る。 ま た、 試料を移動させる移勣ス テ一 ジ も徴細担籙を見るため
    [0007] / 0 — / 0 0 β -ω. と 徵 / j、 ¾移勣を数多 く 繰返さね.ば ¾ らず高誇度高堅牢性が要求される。 更に、 試料の移動 を数多 く 繰返すために分析に長時間を必要とす-る。
    [0008] こ の よ う な実情に箬み、 本癸明者等は、 石炭担绫分 析法にっき 種 々 検討 した转杲、 前記の よ う な因罄性を 解決 し、 原料炭の コ 一 ク ス化性判定に必要な溶 成分 量と石炭化度を精度 よ く 、 人手をかけずに迅速に求め る こ .とができ る新規な分析法およ び装置を開発するに 到つた。 発明の開示
    [0009] 本癸明は、 石炭組織分析法と こ の方法を実旌する装 置 との 《2 発明か ら ¾ る。
    [0010] 分析法に関する第 / の癸明 Ο要旨は、 試料表 反 射光を測定する こ と に よ 石炭組織分析をおこ ¾ う 方 法において、 試料表面の反射光を光電靣上に画停 と し て 像させ、 次いで該光霄面上の画像の梃めて多数点 において光量を測定する こ と に よ ] 、 試料表面の反射 強度を 定 し、 得 られた反射強度デー タか ら石炭組鑌 中の溶融する成分の同定 と定量と ビ ト リ ニ ッ ト 成分の 平均反射強度の測定を こ な.う こ と を特徵とする石炭 組^分析法に存する。
    [0011] 装量に関する第 《 の癸明の要旨は、 試科台、 ^微鏡 およ び試料表面の反射光を画像と して結像させるため の光電面 と 該画像の任意の点の光量に Mする信号を出 ,力する手段 と を有する撮像装置かち ¾ る！：像入力機構 と、 料台を移動させる試料台移動機構 と、 前記画像 入力檨 *·か らの信号を入力する手段 と前記両檨構を制 、御するための信号を出力する手段と測定 よ び濱算結 杲を記録およ び表示する手段 と を有する電子計算機 と か ら る石炭組緣自動分析装置に存する。
    [0012] 本癸明をさ らに詳細に説明するに、 石炭粒表面に於 ける反射光は、 その表面性状を表わす も のであ ]) 、 石 炭の主成分である ビ ト リ ニ ッ ト と称する fG分 （ これは 乾 ¾の際に溶融する成分の主成分である ) は比較的均 質で一定の反射強度を持っている。 これに対 し石炭の ィ ナー ト 部分 （ これは溶 S し い成分の主成分である） の表 Eは明 る さ の分布が広 く 、 かつ割 目 や気孔が多い ため反射強度が幅広 く 分散 している。 そこで、 免ず全 徵^ ^锾の反射強度を充分正確に測定する必旻がある。
    [0013] ( 一 Ο Π . 本発明においては、 試料^ ζ面の反射光を光電面上に 画像と して結像させたのち、 該光電面上の極めて多数 点において画像の光量を測定する こ と に よ ]9 、 試料表 面の反射？ #度が測定される ο 光電面での画像の任意の 点の光量の 定は、 後記 3 る コ ン ト ロ ー フつき ィ メ ー ジディ セ ク タ チュー ブの よ う ¾像装置を用いる と、 短時間で、 容易に実施でき る。 ま た、 光電面上に画像 と して結像される 料 の.領域は、 撮像装置の仕様に よ 相違するが、 通常 . 0 / 〜 2 ffi 程度と比較的広い c 従って こ の方法に よれば試科台 ο移 »回数力 S少 いの で、 試料表面の多数点 ©反射強 S測定を短時間で し う る利点がある。
    [0014] 上記方法に よ 反射強度を測定する場合に用い られ る装置と しては、 試料表面の反射光を画像 と して結像 させるための光電面と該画像の任意の点の光量に関す る信号を出力する手段どを有する撮像装置が ¾ ( o 具 体的にはコ ン ト 口 ー ラつき ィ メ 一 ジデイ セ ク タ チュー ブが用い られる。 ィ メ 一ジデイ セク タ チュー ブとは、 非蓄積形撮像管の / つで、 基本構造は 、 ァ 一 チヤを はさんでイ メ ー ジ部 と電子増倍部とか ら る P ィ メ ー ジ部の光電面に光学像 （ 画像 ) ぶと、 画像の光量 に応 じた光電子が放出されァ テャ を通 D 電子増倍 管へ入 ！） 増倍されて出力される c コ ン ト ロ ー ラ を用い て ィ メ ー ジ咅;：の偏向電界を変える こ と に よ 光電面 O
    [0015] OMPI 任意の位置の光電子をアバ チヤ上に移動させる こ と ができ る。 そ してコ ン ト 口 ラ によ ） ラ ン ダ ム走査が でき るため、 画像の任意の位置の光量に する信号を 瞬時に取 ] 出すこ とがで き、 画像信号 と して出力 し う る
    [0016] 光電面上の画像の光量の ^定点数は、 に制限は いが、 精度よ く 測定するにはでき る限 1 多数である こ とが好ま し く 、 通常は =2 0 0 ク 点以上^ま し く は
    [0017] ク 点以上 とする。 ま た、 測定点の間隔は、 〜
    [0018] / 0 の範 Sか ら選択する の力； よい。
    [0019] 本 ^明においては、 反射強度デー タ か ら石炭組籙中 の溶 ¾する成分の同定と定量と ビ ト リ 二 ッ ト 成分の平 均反射強度の測定を こ る う が、 該デー タ を画像信号 と して出力 して、 以下に示す順序でデ一 タ処理 して、 精度よ く これを こ る う こ とができ^)。
    [0020] (ィ） 翰郭抽出処理 .
    [0021] 石炭粒 と試料作製に周い られるバィ ン ダ一 の反 射率はバイ ン ダ一 の方が低 く 石炭粒 と 明確に区別 でき る。 そ こで両者の反射強度間のバ イ ン ダ一寄 Ϊ) に適当 反射強度の し き い値を設け、 該 しき い 値 よ j 小さ い部分の画像信号を 0 とすれば、 0 で ある部分で比敦的大き く 違続 した锾域をパ イ ン ダ — と み ¾ し得るので、 石炭粒と バイ ン ダ 一 の分蓖 ができ 、 石炭部分の輪郭が得 られる
    [0022] REA O PI (口） 溶融する成分の同定
    [0023] 画像信号に対 して翰郭抽出処理を斿 してバイ ン ダ一の画像出力を除去し、 得 られた石炭部分の画 像出力に対 し、 以下の よ う な手段にて溶融する成 分判別のためのデー タ処理を行 う 。
    [0024] すなわち、 石炭粒表面における反射強度は、 そ の表面性状を表わすも のであ ] 、 石炭乾溜中に溶 融する成分の主成分である ビ ト リ ニ ッ ト 成分 （ こ れは、 ま た、 リ アク ティ ブ成分の主成分である ） は比較的均質で一定の反射強度を持っている。 こ れに対 し、 乾溜中 溶融 し い成分す ¾わち イ ナ — ト 成分の表面は明るさの分布が広 く 、 かつ割 目 や気孔が多いため反射強度が幅広 く 分散 している。 そこで ビ ト リ ニ ッ ト 成分の判別は、 石炭粒部分の 徵小領域例えば / 〜 / ク ¾2 程度の領域に ついて反射強度の平均、 標準倡差、 分布等の統計 量を求め、 反射強度のパ ラ ツ キの程度が一定範囲 内である も のを ビ ト リ ニ ッ ト である とすればよい。 例えば、 判別をおこ ¾ う 画像信号の各点を中心に して n X n のエ リ 了について統計量と して、 反射 強度の平均値 （ A V E . と珞す ） 、 標準偏差 （ S D . と略す ） および S D.ZA V E . ( P S A V と略す） を計算 し （ n = 2 〜 、 デ一 タ数 〜 / 程度で よ い ) . P S A V值が一定値以下例えば 〜 / S 以下の点を ビ ト リ - ッ ト と すればよ い。
    [0025] H 溶融する成分の定量、 ビ ト リ ニ ッ ト 成分の平均
    [0026] 反射強度ま たは平均反射率の決定
    [0027] (口）の処理に よ ビ ト リ ニ ッ ト 成分 と判別された 部分の画像信号に よ j 、 ビ ト リ ニ ッ ト 成分の反射 強度頻度分布を求める。
    [0028] 一方 (ィ）の処理後得 られる石炭部分の画像出力か ら、 全石炭組織.の反射強度頻度分布を求める。 ま た、 ビ ト リ ニ ッ ト 成分の反射強度頻度分布か ら、 ビ ト リ ニ ッ ト 成分の平均反射強度ついで平均反射 率を求める。
    [0029] 溶融する成分の量は、 前記 《2 つの頻度分布か ら 求める こ とができ る。 す わち、 溶融する成分の 主成分の ビ ト リ - ッ ト 成分の量は、 前記 ビ ト リ ニ ッ ト 成分の反射強度頻度分布か ら求め る こ とがで
    [0030] . き る。 残余の溶融する成分 （ ェキ ジニ ッ ト成分等）
    [0031] は、'前記全石炭組漦の反射 §|度頻度分布 よ ]9 ビ ト リ ニ ッ 卜 成分の反射強度類度分布を差引いた残佘 の分布の う ちの一定の反射強度以下の も の （ 例え ば、 前記平均反射強度以下の も の ） と すればよ い。
    [0032] 以上の よ う る測定およびデー タ 処理をおこる う ため の装置について説明する と、 ϋ像入力機構は、 試料台、 顕微夔 よ び前記撮像装置か ら るが、 撮像装.置か ら の光電面上の画像光量に関する ノ ィ ズを除去する フ ィ
    [0033] OMPI
    [0034] k — ) ル タ ー手段を傭えて く こ とが好ま しい。 この よ う ¾ フ ィ ル タ —手段 と しては、 抵抗と コ ン デ ン サ 一を用い た R C 回路が挙げ られる。
    [0035] 試料合移動機樟と しては、 ス テ ッ プ モー タ ーおよび その制 回路か らる る も のが挙げられる。
    [0036] 電子計算機には画像入力檨構か ら O信号を入力する 手段と、 像入力機構と試料台移動接 を制御するた めの信号を出力する手段 （ これ ら両手段と しては、 汎 用入出力 j街装置を用いる こ とができ る。 ) と、 演算 理を行いその結杲を記録および表示する手段例えば フ ロ ッ ピ デ ィ ス ク 、 デ ィ ス プ レ イ 、 ブ リ ン タ ー等を有 する。 電子計算機は、 ま ず画像信号か ら合焦度を計算 し、 焦点があってい い場合には、 ^台移動機構を
    [0037] 3御 して焦点合わせいわゆる 自動焦点操作をおこる う こ こで合 ¾度 と は、 - 画像境界での铵分 ' は焦点が合 う 程大き く . るのに対 し境昇以外ではあま ]5 変 ら ¾い こ とに着目 し、 境界の明確度を差分和法 よって計算 し 求めた煊をい う 。
    [0038] 次いで Sj像入力檨樗を制御 して、 記 (ィ）、 （口）および のデー タ ^理をおこ う に必要 ！：像信号を入力さ せ、 漬算をおこ い、 转杲を出力する - 以下図靣に よ ] 本発明を更に詳^に 明する。 第 / 図において / は試料、 2 は顕微鏡であ ]5 、 -その頂部に イ メ ー ジディ セク タ チュー ブ " を設けてある。 J はハ 口 ゲ ン光源 ^ を安定化させる ための直流安定化電源で ある。 は試料台でス テ ッ プモー タ一 7. ヲ に よ ？ 水 平方向の縦横お よ び上下方向に移動で き る よ う に して ある。 I / は前記イ メ ー ジデ ィ セ ク タ チュー ブ を制 御するための コ ン ト ロ ー ラ で、 計算機 / か らの信号 に よ ィ メ 一 ジディ セ ク タ チュー ブ の任意の香地の アナ ロ グ信号を出力させる制御機構である。 / =2 は前 記制御機樽か ら 出力される アナ ロ グ信号のノ イ ズを除 去する フ ィ ル タ ー手段でその出力側は A D コ ン バ 一 タ — I J を介 して計算機 / に接続されてい る 。 計算機 I には汎用入出力制御装置が内蔵されている。 1 0 は前記ス テ ツ ブモ ー タ 一 7. S . ？ の作動を制御するため の移動ス テ ー ジ制御回路 （ ス テ ッ プ 巾 、 ス テ ッ プ数、ス テ ツ プ方向 ） であ 計算機 / ^ と接続されている。
    [0039] / ^ は計算機 / 牛 と接続 した入力およ び記録表示装置 ( 計算結杲、 度数分布の書き 出 し、 測定パ ラ メ ー タ 一、' 測定開始指令の入力 ） である。 I は計算機 / f と接 続 した補助記憶装置であ ] 測定結果の保存、 補正係数 の保存、 プ ロ グ ラ ム の保存をする 。
    [0040] 本発明に よ 原料炭の反射強度を測定するには先ず 測定 し よ う とする原料炭試料を準儋する。
    [0041] 試料作成方法は J I S M / έ 又は AS TM D " つ の方法等で よ い。
    [0042] す わち、 先ず、 石炭を微粉砕 したのち、 適当 バ ィ ン ダ一 を用いてプ リ ケ ッ ト と し、 次いで 定表面を 研摩 して平滑化す.る。 バ イ ン ダ ー と しては、 例えば、 熱可塑性、 熱硬性の合成樹脂、 天然樹脂、 ワ ッ ク ス等 が使用されるが、 その反射率が油浸レ ン ズ で観察 した と き に石炭粒と 明確に分 ί!でき る程度の、 石荧粒よ 低反射 の も のが望ま し 。 通例は .ク 2 ^下の反 射塞の も のが使用される。
    [0043] の よ う に作製した試料 I を試料台 ά に载せハ 口 ゲ ン光源 か ら試料 / に光を照射 し、 その反 Ιέ ^:をィ メ ー ジ デ ィ セ ク タ チュー ブ で捕捉する 。 こ の場合、 従 夹法では試料面の徵小 領域 （ 《2 i " 〜 0 0 ii- ) に 光を薛、射 し、 その反射光を フ ォ ト マ ル チブ ラ イ ヤーに 捕捉 しているため、 試料台の移勣 （ / 試料につき / 回程度 ） が多 く 、 かつ試料台の移 fi ;こ高精度 および高速度が要求される。
    [0044] しかるに本癸明では照射 して測定する領垵を . / 〜 度と広 く し、 反射光を画像と してィ メ ー ジデ ィ セ ク タ 一チューブ で捕捉 しているため試斜合の移 勣数は / 0 〜 《2 0 ク 回程度と少な く 、 かつ移動精度 も普通程度で よい。 反射強度の測定は次の よ う に して 行われる。
    [0045] 先す '移動ス テー ジ ij筠回路 / の作動に よ ス テ ツ ブモー ター 7 . f を ij御 して試料台 を水平方 1¾の所定 位置に移動させた後、 反射光を画像信号と して計算機 I に取 ！）込み、 該信号か ら合焦度を計算 して求める c 次にス テ ッ プ モー ター ？ を作動させて試料台 έ を上下 方向に移動させた後、 再び画像信号を計算様に取 込 み、 再度合焦度の計箕をする。 この操作をス テ ッ プモ — タ ー ？ を制御 し ¾が ら鐃返 して焦点合せをする。 こ の制御方式に よ 焦点が自 動的に調整されるので測定 開始後は人手の介入は全 く 不要である。
    [0046] 焦点合せが終了 した時点で再度、 反射光を画像信号 と して計算機 / に取 ] 込む、 そ してその靣像デー タ を計算機 / にて翰郭抬出処理を施 し、 石炭粒のデー タ と バ イ ン ダーのデー タ に分難する。 分餑 した石炭粒 のデー タ については前述 した よ う に、 各点毎に周辺の 試料表面約 / 0 0 βΜ 2 内の反射強度のデー タ を用いて 反射強度の平均値分散、 分布等の統計値を計算 して ビ ト リ ニ ッ ト 成分のデー タ を分離 し、 全石炭 ^綾の反射- 強度頻度分布 と ビ ト リ ニ ッ ト 成分の反射強度頻度分布 ¾·求める。
    [0047] この よ う に して一視野の測定が終る と、 予め定め ら れたプ ロ グ ラ ム に従い計算機 / か らの信号に よ 移 勣ス テー ジ制御回路 / が動作 してス テ ッ プ モ ー タ 一
    [0048] 7 およ び が動かされ、 試料 / が / 〜 水平面の綠 又は横方向に移動され、 次の測定点が頹铵鏡の視野内 に隼億される。 そ して前記 した反射光測定、 焦点合せ および輪郭抽出 ^理、 全石炭組緣 と ビ ト リ ニ ッ ト 成分 f ΟΜΠ の反射強度頻度分おの計算が行 ¾われる。
    [0049] 測定視野の数は多い程、 精度は向上するが、 通営
    [0050] I 0 0 〜 1 0 視野測定すれば目的は達せ られる。
    [0051] この よ う に して計算機 / に集積記憶された^定値 は表示装置 / に表示される ので、 その結果か ら コ ー クス化性を推定する こ とができ る。
    [0052] 以上詳述 した通 ] 、 本発明の ^定法 よび装量では 像デー タ の利用に よ ！？ 自動焦点が可能 と な ] 、 人手 の介入が全 く 不要である こ と 、 およ びイ メ ー ジデイ セ ク タチュー ブを使用 している こ とか らス テー ジを徵少 距篛移動する こ と く 単位視野内で ビ ト リ ニ ッ ト の判 定カ；出来る こ と 、 この こ と はス テ ッ プモ 一 タ 一に よ る サ ン プルの'送 ] が / 〜 《2 挪 と非常に大 き く 移 ftで き る こ とか ら 自 動ス テー ジ.の負荷が少 ¾ く 装置に信賴佺が 増すと共に、 分析時間の短縮が達成される。
    [0053] 更に、 分析精度面か ら見る と 、 試料表面の ¾粉炭お よびバイ ン ダ一 と石炭粒と の境界の反射光が分析精度 に惡影響を与えるが赣郭抽出処理を ½する こ とで前記 影響を除外出来る。 このため少数の^定点数で精度の 高い分析結果がえ られる。
    [0054] 以上の よ う 特 ¾を持った^定が行るわれるので、 原料炭の石炭組緣自 動分析法及び装置と して めて有 用である。 図面の簡単 説明
    [0055] 第 / 図は本発明装置の模式的説明図である
    [0056] (1) ： 試料
    [0057] (2) :. 顕微鏡 _
    [0058] (5) ： ィ メ 一 ジデ ィ セ ク タ チ ュー ブ
    [0059] (7)、 (8)、 （9) ·· ス テ ッ プモ ー タ
    [0060] α ： 移動ス テー ジ制御回路
    [0061] ： 電子計算機 発明を実施するための最良の形態
    [0062] 次に、 本発明方法および装置に よ る測定例を、 実 例に よって説明する。
    [0063] 実施例 / お よ び比較例 1
    [0064] 第 -/ 図に示 した装置を用いて試料 A 〜 G について測 定 した。 1 0 X 2 mmの試料面上を頹徴鏡 （ 倍率 《2 倍、 視野直径 0.6 観 ) ' 2 霍間 ί¾ 走査 し、 / 0 0 視野 （ 縦 ζ 0 視野 X横 / 視野 ） のデータ を取得する ィ メ ー ジデ ィ セ ク タ チ ュー ブの視野は 0.3 X 0.3 S 龍で ¾) る 。 ィ メ ー ジ デ ィ セ ク タ チ ュー ブの光電面は
    [0065] 7 0 X 7 0 0画素に分割されて お 、 その中で等間陽 に指定された 3 点の反射強度デー タが取込ま れる よ う に した。 ただ し、 輪郭抽出処理 して石炭粉子の部分 だけのデー タ を取得する様に っているため、 実際に は ィ メ ー ジ デ イ セ ク タ チ ュー ブ / 画面当 約 / 点程
    [0066] O PI 度と る。 従って / 試料当 ） I 点 Z / g ¾ X / 0 0 = / 0 0 0 点程度 のデー タ を取る こ と に ¾ る。 輪郭抽 出処理の際の しき い値と しては、 反射 ¾ / .2 3 の標逢 反射板の反射強度を基準に して設定 した。 ビ ト リ ニ ッ ト 成分の同定には、 前述 した よ う に、 A V E . 、 S D . および P S A V を、 ]! = «3 デー タ数 ？ にて計算 し、 P S A V 値 / 以下の点を ビ ト リ ニ ッ ト 成分 と した c ビ ト リ ニ ッ ト 成分の平均反射率は、 、ビ ト リ 二 ッ ト 成分 の反射強度頻度分 ¾ よ 求めた反 Ιί¾度の平均値 よ ] 求めた。 反射率値への換算は上記標準 &射板の ィ メ ー ジデ ィ セ ク タ チュー ブ出力値 よ おこ ¾つた
    [0067] 更に、 溶融 し い成分の量は、 前述 した よ う に、 全 石炭組緣の反射強度頻度分布 よ ]9 ビ ト リ ニ ッ ト 成分の 反射強度耮度分布を除き 、 残余のデー タ よ ！？ 、 反射強 度の平均値 （ ビ ト リ - ッ ト 成分の平^反射率を求める 際に用いた値 ） 以上の反射強度を持つ も のを計算 して 求めた （ 該平均値未満の も のは、 ェキ ジニ ッ ト が主成 分である ） 。 測定結果を表 / に示す。
    [0068] お、 比餃のために、 J i s Μ ε ε / b の方法につい て、 人間の観察に よ る測定結果を せて表 / に示す。 し い成分 ビ ト リニット成分 溶融'する成分
    [0069] 含有量 （ ） 含有量 （ ） の平均反射率 比較例 1 実施例 1 臉例 1 実删 1 比糊 1 実施例 1
    [0070] (入力） (入力） (入力）
    [0071] S7.9 / / .0 /た 7 / . &2 1. ίθ
    [0072] & 7. 9 72. 2L .3 / . 1屮 / · / , 。 E / .3 SO . ？ / ^ .3 / . / 0. 76 0. 7ί
    [0073] 3. i ？ / . S 屮 . 7 0. つ Ψ
    [0074] 69.7 7^ . 7 2ί . ？ 2S .3 / · / / , S7-
    [0075] 産業上の利用可能性
    [0076] 本 明は、 コ 一 ク ス製造の際の石炭組緣分析法 と し て有月である。 .
    [0077] O PI
    权利要求:
    Claims 求 の
    (1) 公知の方法に従って調整された平滑試料表面の反
    射光を 定する こ と に よ D 石炭组缭分析をおこ う 方法におい て、 試料表面の反射光を光電面上に画像 と して转像させ、 次いで該光霄靣上の画像の極めて 多数点において光量を測定する こ と に よ ]) 、 試料表 面の反射強度を測定 し、 得 られた反射強度デー タ か ら石炭钽續.中の溶毂する成分の同定と定量と ビ ト リ ニ ッ ト 成分の平均反射強度の 定をおこる う こ と を 特徵 とする石炭組織分析法。
    (2) 光電面上に画像 と して結像される試料表面の領域
    が . / 〜 《2 である こ と を特徵 とする請求の範囲 第 I 項記載の石炭担欒分析法。
    (3) 光電面上の光量測定点数が 2 点 ^上である
    こ と を特徵とする請求の範囲第 / 項又は第 ·2 項記載 の石炭！ ¾ ¾分析方法。
    (4) 試料台、 頭微鏡および試料表面の反射光を画像 と
    して結像させるための光電面と該画像の任意の点の 光量に関する信号を出力する手段 と を有する撮像装 置か ら ¾る画像入力檨構と 、 試料合を移動させる試 料台移動接橒と 、 前記画 ½入力機構か らの信号を入 力する手段 と前記両檨檮を制街するための信号を出 力する手段と演算処理を行いその結杲を記録および
    ( OMH 表示する手段 と を有する電子計算機と か ら な る石炭 組截自動分析装置 o
    (5) 撮像装置がコ ン ト π — ラ を具備する イ メ ー ジディ セク タ チュー ブである こ と を特徵 とする請求の範囲 第 項記載の石炭組織自 動分析装置 o
    (6) 電子計算機の演算処理が試料中のバイ ン ダ -成分 を除去するための画像入力の輪郭抽出処理 と、 溶融 成分の同定のために反射強度の統計量の算出処理 と . 溶融成分の定量のための反射強度頻度分布の算出処 理 と を含んでいる こ と を特徵とする請求の範囲第 項又は第 項記載の石炭組織 自動分析装置 o
    类似技术:
    公开号 | 公开日 | 专利标题
    US9651495B2|2017-05-16|Signal noise reduction for imaging in biological analysis
    JP2527540B2|1996-08-28|蛍光信号の解析と画像表示のための装置
    ES2415636T3|2013-07-26|Sistemas y métodos para determinar las características de defecto de una estructura compuesta
    US5647025A|1997-07-08|Automatic focusing of biomedical specimens apparatus
    JP3993817B2|2007-10-17|欠陥組成分析方法及び装置
    US6317511B1|2001-11-13|Method and apparatus for particle image analysis using flow cell
    JP3084296B2|2000-09-04|フローイメージサイトメータ
    US7679723B2|2010-03-16|Measuring device and method that operates according to the basic principles of confocal microscopy
    US20130015351A1|2013-01-17|Clustering of multi-modal data
    CN108290219A|2018-07-17|增材制造方法及设备
    DE4206281B4|2004-01-22|Erfassung von Partikeln mit Durchmessern im Submikron-Bereich unter Verwendung eines Feldes mit hoher Dichte
    US4373817A|1983-02-15|Computerized micromeasuring system and method therefor
    JP3215175B2|2001-10-02|粒子分析装置
    CN102460115B|2014-11-05|流式粒子图像分析方法和装置
    JP3411112B2|2003-05-26|粒子画像分析装置
    US7591583B2|2009-09-22|Transient defect detection algorithm
    US4447731A|1984-05-08|Exterior view examination apparatus
    AU2013282289B2|2017-07-27|Cluster analysis of unknowns in SEM-EDS dataset
    US5329352A|1994-07-12|Spectroscopically correlated light scanning microscopy
    JP5190405B2|2013-04-24|ガラス表面の異物検査装置及びその方法
    CN104755914B|2017-12-05|自动化的矿物分类
    CA2039897C|2001-10-16|Automatic focal-point adjustment method in flow imaging cytometer
    US7643143B2|2010-01-05|Particle image analyzing apparatus
    CN104870986B|2017-12-05|用于执行自动化矿物学的过程
    JP4691453B2|2011-06-01|欠陥表示方法およびその装置
    同族专利:
    公开号 | 公开日
    JPS5822940A|1983-02-10|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    1983-02-17| AK| Designated states|Designated state(s): AU DE GB US |
    1983-02-17| AL| Designated countries for regional patents|Designated state(s): FR |
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    JP56/121574810803||1981-08-03||
    JP12157481A|JPS5822940A|1981-08-03|1981-08-03|Method and apparatus for analyzing structure of coal|AU87395/82A| AU8739582A|1981-08-03|1982-08-02||
    [返回顶部]